Σχεδιασμός αντιδραστήρων χημικής απόθεσης από ατμό. Εφαρμογή στη απόθεση βολφραμίου και στην απόθεση οξειδίου του κασσιτέρου
Πρέπει να είστε εγγεγραμένος χρήστης για έχετε πρόσβαση σε όλες τις υπηρεσίες του ΕΑΔΔ  Είσοδος /Εγγραφή

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/16961
Εναλλακτικός τίτλος
Desidgn of chemical vapor deposition reactors. Application to tungsten deposition and to tin oxide deposition
Συγγραφέας
Ξενίδου, Θεοδώρα Χαράλαμπος
Ημερομηνία
2003
Ίδρυμα
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο (ΕΜΠ). Σχολή Χημικών Μηχανικών
Εξεταστική επιτροπή
Μαρκάτος Νικόλαος-Χρήστος
Μπουντουβής Ανδρέας
Κυρανούδης Χρήστος
Σπυρέλλης Νικόλαος
Τσαμάκης Δημήτριος
Βλάχος Νικόλαος
Ματάρας Δημήτριος
Επιστημονικό πεδίο
Μηχανική & Τεχνολογία
Επιστήμες Χημικού Μηχανικού
Λέξεις-κλειδιά
Χημική απόθεση ατμών; Αντιδραστήρες, Σχεδιασμός; Ρευστοδυναμική, Υπολογιστική; Κινητική, Χημική; Βολφράμιο; Οξείδιο κασσιτέρου; Μικροηλεκτρονικές εφαρμογές; Υμένια
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά
Άλλα στοιχεία
197 σ., εικ., ευρ.