Ανάπτυξη, χαρακτηρισμός και μελέτη μεταλλικών νανοκρυστάλλων στη διεπιφάνεια SiO2 / HfO2 με εφαρμογή σε δομές στοιχείων μνήμης
Πρέπει να είστε εγγεγραμένος χρήστης για έχετε πρόσβαση σε όλες τις υπηρεσίες του ΕΑΔΔ  Είσοδος /Εγγραφή

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/16862
Εναλλακτικός τίτλος
Fabrication and characterization of metal nanoparticles embedded in SiO2 / HfO2 interface with the application in memory devices
Συγγραφέας
Σαργέντης, Χρήστος Ευστάθιος
Ημερομηνία
2007
Ίδρυμα
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο (ΕΜΠ). Σχολή Ηλεκτρολόγων Μηχανικών και Μηχανικών Υπολογιστών
Εξεταστική επιτροπή
Τσαμάκης Δημήτριος
Ξανθάκης Ιωάννης
Τραυλός Αναστάσιος
Παπανάνος Ιωάννης
Αβαριτσιώτης Ιωάννης
Τσουκαλάς Δημήτριος
Αϊδίνης Κωνσταντίνος
Επιστημονικό πεδίο
Μηχανική & Τεχνολογία
Επιστήμες Ηλεκτρολόγου Μηχανικού, Ηλεκτρονικού Μηχανικού & Μηχανικού Η/Υ
Λέξεις-κλειδιά
Μεταλλικοί νανοκρύσταλλοι; Νανοσωματίδια; Στοιχεία μνήμης; Δομές μνήμης; Διατάξεις MOS; Χρόνος διατήρησης; Ανάπτυξη νανοσωματιδίων; Ηλεκτρικός χαρακτηρισμός νανοσωματιδίων
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά
Άλλα στοιχεία
117 σ., εικ.