Εναπόθεση λεπτών υμενίων υδρογονωμένου πυριτίου για φωτοβολταϊκή εφαρμογή σε αντιδραστήρες πλάσματος: επίδραση της πίεσης, της χημικής σύστασης και της εξωτερικής πόλωσης στο ρυθμό εναπόθεσης και στη μετάβαση από άμορφο σε νανοκρυσταλλικό
Πρέπει να είστε εγγεγραμένος χρήστης για έχετε πρόσβαση σε όλες τις υπηρεσίες του ΕΑΔΔ  Είσοδος /Εγγραφή

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

DOI
10.12681/eadd/14163
Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/14163
Εναλλακτικός τίτλος
Hydrogenated silicon thin films deposition in plasma reactors for photovoltaic applications: effect of pressure, chemical composition and external substrate bias on deposition rate and on the transition from amorphous to nanocrystalline
Συγγραφέας
Κατσιά, Ελένη
Ημερομηνία
2006
Ίδρυμα
Πανεπιστήμιο Πατρών. Σχολή Πολυτεχνική. Τμήμα Χημικών Μηχανικών
Εξεταστική επιτροπή
Ραπακούλιας Δημήτριος
Σπύρου Νικόλαος
Αγγελόπουλος Γεώργιος
Νικολόπουλος Παναγιώτης
Βαγενάς Κωνσταντίνος
Γιαννούλης Παναγιώτης
Στεργιούδης Γεώργιος
Επιστημονικό πεδίο
Μηχανική & Τεχνολογία
Επιστήμες Χημικού Μηχανικού
Λέξεις-κλειδιά
Νανοκρυσταλλικό πυρίτιο; Χημική εναπόθεση ενισχυμένη με πλάσμα; Υψηλή πίεση; Μετάβαση προς άμορφο πυρίτιο; Εξωτερική πόλωση υποστρώματος; Φωτοβολταϊκά κελιά; Κρυσταλλικό ποσοστό; Βομβαρδισμός με ιόντα
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά
Άλλα στοιχεία
187 σ., εικ.