ΕΝΑΠΟΘΕΣΗ ΑΜΟΡΦΟΥ ΥΔΡΟΝΩΜΕΝΟΥ ΠΥΡΙΤΙΟΥ ΣΤΗΝ ΕΚΚΕΝΩΣΗ ΑΙΓΛΗΣ ΤΟΥ ΣΙΛΑΝΙΟΥ. ΡΟΛΟΣΤΩΝ ΕΝΕΡΓΩΝ ΕΝΔΙΑΜΕΣΩΝ

Περίληψη

ΣΤΗΝ ΔΙΑΤΡΙΒΗ ΕΞΕΤΑΖΕΤΑΙ Η ΔΙΕΡΓΑΣΙΑ ΕΝΑΠΟΘΕΣΗΣ ΑΜΟΡΦΟΥ ΥΔΡΟΓΟΝΩΜΕΝΟΥ ΠΥΡΙΤΙΟΥ ΣΤΗΝ ΕΚΚΕΝΩΣΗ ΑΙΓΛΗΣ ΤΟΥ ΣΙΛΑΝΙΟΥ ΓΙΑ ΤΗΝ ΚΑΤΑΣΚΕΥΗ ΦΩΤΟΒΟΛΤΑΙΚΩΝ ΣΤΟΙΧΕΙΩΝ ΥΨΗΛΗΣ ΑΠΟΔΟΣΗΣ. ΣΥΓΚΕΚΡΙΜΕΝΑ ΓΙΝΕΤΑΙ ΠΡΟΣΠΑΘΕΙΑ ΣΥΣΧΕΤΙΣΗΣ ΤΩΝ ΜΑΚΡΟΣΚΟΠΙΚΩΝ ΠΑΡΑΜΕΤΡΩΝ ΤΗΣ ΔΙΕΡΓΑΣΙΑΣ ΜΕ ΤΑ ΜΙΚΡΟΣΚΟΠΙΚΑ ΧΑΡΑΚΤΗΡΙΣΤΙΚΑ ΤΗΣ ΕΚΚΕΝΩΣΗΣ ΚΑΙ ΤΑ ΠΟΙΟΤΙΚΑ ΚΑΙ ΠΟΣΟΤΙΚΑ ΧΑΡΑΚΤΗΡΙΣΤΙΚΑ ΤΟΥ ΕΝΑΠΟΤΙΘΕΜΕΝΟΥ ΑΜΟΡΦΟΥ ΥΔΡΟΓΟΝΩΜΕΝΟΥ ΠΥΡΙΤΙΟΥ. ΓΙΑ ΑΥΤΟΝ ΤΟ ΣΚΟΠΟ ΧΡΗΣΙΜΟΠΟΙΟΥΝΤΑΙ ΟΠΤΙΚΕΣ ΔΙΑΓΝΩΣΤΙΚΕΣ ΜΕΘΟΔΟΙ, ΟΠΩΣ ΗΦΑΣΜΑΤΟΣΚΟΠΙΑ ΦΘΟΡΙΣΜΟΥ ΜΕ LASER ΚΑΙ Η ΦΑΣΜΑΤΟΣΚΟΠΙΑ ΕΚΠΟΜΠΗΣ, ΓΙΑ ΤΗΝ ΑΝΙΧΝΕΥΣΗ ΕΝΕΡΓΩΝ ΕΝΔΙΑΜΕΣΩΝ ΠΟΥ ΠΡΟΕΡΧΟΝΤΑΙ ΑΠΟ ΤΗΝ ΔΙΑΣΠΑΣΗ ΤΟΥ ΣΙΛΑΝΙΟΥ ΚΑΙ ΣΥΜΜΕΤΕΧΟΥΝ ΣΤΗΝ ΔΗΜΙΟΥΡΓΙΑ ΤΟΥ ΦΙΛΜ. ΚΑΤ'ΑΥΤΟΝ ΤΟΝ ΤΡΟΠΟ ΕΙΝΑΙ ΔΥΝΑΤΗ Η ΕΞΕΤΑΣΗ ΤΗΣ ΕΠΙΔΡΑΣΗΣ ΔΙΑΦΟΡΩΝ ΜΑΚΡΟΣΚΟΠΙΚΩΝ ΠΑΡΑΜΕΤΡΩΝ ΟΠΩΣ Η ΠΙΕΣΗ, Η ΙΣΧΥΣ, Η ΠΑΡΟΧΗ, ΚΑΙΗ ΑΠΟΣΤΑΣΗ ΤΩΝ ΗΛΕΚΤΡΟΔΙΩΝ ΣΤΗΝ ΜΕΤΑΒΟΛΗ ΤΗΣ ΣΥΓΚΕΝΤΡΩΣΗΣ ΚΑΙ ΤΗΝ ΚΑΤΑΝΟΜΗ ΣΤΟΝ ΧΩΡΟ ΤΩΝ ΕΝ ΛΟΓΩ ΕΝΔΙΑΜΕΣΩΝ. ΤΑ ΑΠΟΤΕΛΕΣΜΑΤΑ ΤΗΣ ΕΞΕΤΑΣΗΣ ΣΥΣΧΕΤΙΖΟΝΤΑΙ ΜΕ ΜΕΤΡΗΣΕΙΣ ΤΟΥ ΡΥΘΜΟΥ ΕΝΑΠΟΘΕΣΗΣ, ΤΗΣ ΟΠΤΙΚΗΣ ΑΠΟΡΡΟΦΗΣΗΣ ...
περισσότερα

Περίληψη σε άλλη γλώσσα

IN THIS WORK WE EXAMINE THE PROCESS OF PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION OF AMORPHOUS HYDROGENATED SILICON FOR HIGH EFFICIENCY SOLAR CELLS. NAMELY, OUR EFFORT IS TO CORRELATE MACROSCOPIC DEPOSITION PARAMETERS WITH MICROSCOPIC PLASMA PARAMETERS AND THE DEPOSITED FILM CHARACTERISTICS. FOR THIS PURPOSE WE USELASER INDUCED FLUORESCENCE AND SPATIALLY RESOLVED EMISSION SPECTROSCOPIES FOR RECORDING THE CONCENTRATION AND SPACE - DISTRIBUTION OF ACTIVE INTERMEDIATES, THAT PARTICIPATE TO THE FILM GROWTH, DURING THE DEPOSITION. IN THIS MANNER WE EXAMINE THE INFLUENCE VARIOUS DEPOSITION PARAMETERS, SUCH AS PRESSURE, POWER FLOW, DISCHARGE GEOMETRY AND BUFFER-GAS DILUTION TO THE CONCENTRATION AND SPACE DISTRIBUTION OF SIH AND ELECTRONICALLY EXCITED SIH* RADICALS SIMULTANEOUSLY. THE RESULTS ARE CORRELATED WITH THE FILM CHARACTERISTICS SUCH AS DEPOSITION RATE, ABSORPTION, DARK AND PHOTO-CONDUCTIVITY, AND THEY ARE USED AS DATA SOURCE FOR THEREALISTIC SIMULATION OF THE PROCESS. THUS, A SERIES O ...
περισσότερα
Πρέπει να είστε εγγεγραμένος χρήστης για έχετε πρόσβαση σε όλες τις υπηρεσίες του ΕΑΔΔ  Είσοδος /Εγγραφή

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

DOI
10.12681/eadd/1408
Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/1408
Εναλλακτικός τίτλος
DEPOSITION OF AMORPHOUS HYDROGENATED SILICON IN SILANE GLOW DISCHARGE. THE ROLEOF ACTIVE INTERMEDIATES
Συγγραφέας
ΜΑΤΑΡΑΣ, ΔΗΜΗΤΡΙΟΣ
Ημερομηνία
1990
Ίδρυμα
Πανεπιστήμιο Πατρών. Σχολή Πολυτεχνική. Τμήμα Χημικών Μηχανικών
Εξεταστική επιτροπή
ΡΑΠΑΚΟΥΛΙΑΣ ΔΗΜΗΤΡΙΟΣ
ΠΑΠΑΘΕΟΔΩΡΟΥ ΓΙΩΡΓΟΣ
ΜΥΤΙΛΗΝΕΟΥ ΕΥΓΕΝΙΑ
ΝΙΚΟΛΟΠΟΥΛΟΣ ΠΑΝΑΓΙΩΤΗΣ
ΜΑΚΙΟΣ ΒΑΣΙΛΗΣ
Επιστημονικό πεδίο
Μηχανική & Τεχνολογία
Επιστήμες Χημικού Μηχανικού
Λέξεις-κλειδιά
Άμορφο υδρογονωμένο πυρίτιο (Α-SI:H); ΕΚΚΕΝΩΣΗ ΑΙΓΛΗΣ ΤΟΥ ΣΙΛΑΝΙΟΥ; ΠΛΑΣΜΑ ΧΑΜΗΛΗΣ ΠΙΕΣΗΣ; ΦΑΣΜΑΤΟΣΚΟΠΙΑ ΕΚΠΟΜΠΗΣ; ΦΑΣΜΑΤΟΣΚΟΠΙΑ ΦΘΟΡΙΣΜΟΥ ΜΕ LASER; Φωτοβολταϊκά στοιχεία; ΧΗΜΕΙΑ ΤΗΣ ΕΚΚΕΝΩΣΗΣ ΑΙΓΛΗΣ ΤΟΥ ΣΙΛΑΝΙΟΥ
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά