Επιταξιακή ανάπτυξη με MBE οξειδίων μετάλλων υψηλής διηλεκτρικής σταθεράς πάνω σε πυρίτιο για εφαρμογές σε τεχνολογίες αιχμής

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

DOI
10.12681/eadd/16443
Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/16443
ND
16443
Εναλλακτικός τίτλος
Epitaxial growth of high permittivity metal oxides on silicon by MBE for state o the art applications
Συγγραφέας
Βελλιανίτης, Γεώργιος (Πατρώνυμο: Χρήστος)
Ημερομηνία
2004
Ίδρυμα
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο (ΕΜΠ). Σχολή Εφαρμοσμένων Μαθηματικών και Φυσικών Επιστημών. Τομέας Φυσικής
Εξεταστική επιτροπή
Λιαροκάπης Ευθύμιος
Ράπτης Ιωάννης
Δημούλας Αθανάσιος
Θαναηλάκης Αντώνιος
Ευαγγέλου Ευάγγελος
Τσουκαλάς Δημήτριος
Τσαμάκης Δημήτριος
Επιστημονικό πεδίο
Φυσικές Επιστήμες
Φυσική
Λέξεις-κλειδιά
Υλικά υψηλής διηλεκτρικής σταθεράς; Διηλεκτρικά; Επιταξιακή ανάπτυξη; Ηλεκτρικό ισοδύναμο πάχος
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά
Άλλα στοιχεία
140 σ., εικ.
Στατιστικά χρήσης
ΠΡΟΒΟΛΕΣ
Αφορά στις μοναδικές επισκέψεις της διδακτορικής διατριβής για την χρονική περίοδο 07/2018 - 07/2023.
Πηγή: Google Analytics.
ΞΕΦΥΛΛΙΣΜΑΤΑ
Αφορά στο άνοιγμα του online αναγνώστη για την χρονική περίοδο 07/2018 - 07/2023.
Πηγή: Google Analytics.
ΜΕΤΑΦΟΡΤΩΣΕΙΣ
Αφορά στο σύνολο των μεταφορτώσων του αρχείου της διδακτορικής διατριβής.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.
ΧΡΗΣΤΕΣ
Αφορά στους συνδεδεμένους στο σύστημα χρήστες οι οποίοι έχουν αλληλεπιδράσει με τη διδακτορική διατριβή. Ως επί το πλείστον, αφορά τις μεταφορτώσεις.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.
Σχετικές εγγραφές (με βάση τις επισκέψεις των χρηστών)