Εξέταση μηχανισμών κατά την UV φωτοαποδόμηση πολυμερών

Περίληψη

Η φωτοαποδόμηση των πολυμερών αποτελεί τη βάση ενός μεγάλου αριθμού εφαρμογών όπως της αποκατάστασης ζωγραφικών έργων τέχνης. Το κυριότερο πρόβλημα για την διασαφήνιση των μηχανισμών είναι η δυσκολία για την συστηματική εξέταση της επίδρασης των παραμέτρων του πολυμερούς. Σε αυτήν την διατριβή εξετάσθηκε η επίδραση του Μοριακού Βάρους (ΜΒ) του πολυμερούς. Με την αλλαγή του ΜΒ οι υπεύθυνοι μηχανισμοί του φαινομένου μπορούν να εξετασθούν άμεσα και συστηματικά. Η παρούσα μελέτη εστιάζεται στην εξέταση της επίδρασης του ΜΒ στην φωτοαποδόμηση του Poly(methylmethacrylate) (ΡΜΜΑ) και Polystyrene (ΡS) σε τρία υπεριώδη μήκη κύματος (193 nm, 248 nm και 308 nm) που αποτελούν απλά μοντέλα των βερνικιών που χρησιμοποιούνται στην επικάλυψη ζωγραφικών έργων τέχνης. Σε ασθενώς απορροφούμενα μήκη κύματος, τα κατώφλια της φωτοαποδόμησης βρέθηκαν να αυξάνονται με την αύξηση του ΜΒ, ενώ στα ισχυρά απορροφούμενα μήκη κύματος ίδια κατώφλια παρατηρήθηκαν με την αλλαγή του ΜΒ. Επίσης παρατηρήθηκαν αλλαγές και ...
περισσότερα

Περίληψη σε άλλη γλώσσα

Laser ablation of polymers constitutes the basis for a wide range of applications ranging of restoration of artworks to medical applications. There are several reasons for the difficulties in establishing the mechanism(s), but the most important one appears to be the limitations in the systematic examination of the influence of material parameters. To overcome this problem, we turn to the examination of polymer molecular weight (Mw) on laser induced processes and in ablation. In the comparison of polymers of different Mws, the chemical and optical properties are nearly identical, and the systems differ only in the number of bonds. Thus, the relevance of the various mechanisms that have been suggested for UV ablation of polymers can be directly tested. The study concentrates on Poly(methylmethacrylate) (PMMA) and on Polystyrene (PS) which examined as model systems of varnishes in the painted artworks at three excimer wavelengths (193 nm, 248 nm and 308 nm). At weakly absorbed wavelength ...
περισσότερα

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

DOI
10.12681/eadd/15852
Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/15852
ND
15852
Εναλλακτικός τίτλος
Examination of the mechanisms of UV laser ablation of polymers
Συγγραφέας
Μπούνος, Ιωάννης (Πατρώνυμο: Κωνσταντίνος)
Ημερομηνία
2007
Ίδρυμα
Πανεπιστήμιο Κρήτης. Σχολή Θετικών και Τεχνολογικών Επιστημών. Τμήμα Φυσικής
Εξεταστική επιτροπή
Φωτάκης Κωνσταντίνος
Φαράντος Σταύρος
Χαραλαμπίδης Δημήτριος
Γεωργίου Σάββας
Κιτσόπουλος Θεοφάνης
Τζανετάκης Παναγιώτης
Παπάζογλου Δημήτριος
Επιστημονικό πεδίο
Φυσικές Επιστήμες
Φυσική
Λέξεις-κλειδιά
Φωτοαποδόμηση; Φωτοχημεία; Φωτοφυσική; Ζωγραφική, Έργα Τέχνης
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Αγγλικά
Άλλα στοιχεία
133, vii σ., εικ.
Στατιστικά χρήσης
ΠΡΟΒΟΛΕΣ
Αφορά στις μοναδικές επισκέψεις της διδακτορικής διατριβής για την χρονική περίοδο 07/2018 - 07/2023.
Πηγή: Google Analytics.
ΞΕΦΥΛΛΙΣΜΑΤΑ
Αφορά στο άνοιγμα του online αναγνώστη για την χρονική περίοδο 07/2018 - 07/2023.
Πηγή: Google Analytics.
ΜΕΤΑΦΟΡΤΩΣΕΙΣ
Αφορά στο σύνολο των μεταφορτώσων του αρχείου της διδακτορικής διατριβής.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.
ΧΡΗΣΤΕΣ
Αφορά στους συνδεδεμένους στο σύστημα χρήστες οι οποίοι έχουν αλληλεπιδράσει με τη διδακτορική διατριβή. Ως επί το πλείστον, αφορά τις μεταφορτώσεις.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.
Σχετικές εγγραφές (με βάση τις επισκέψεις των χρηστών)