Μελέτη της επίδρασης της εμφύτευσης ιόντων στις οπτικές, δομικές και ηλεκτρικές ιδιότητες πυριτίου και δομών SIMOX πυριτίου με ταχεία φασματοσκοπία FOURIER υπερύθρου

Περίληψη

Η παρούσα διατριβή εκπονήθηκε στα πλαίσια της εγκατάστασης του εκτεταμένου φασματοφωτομέτρου IFS113v της Bruker στο Αριστοτέλειο Πανεπιστήμιο Θεσσαλονίκης για την υλοποίηση οπτικών μετρήσεων ταχείας φασματοσκοπίας Fourier υπερύθρου, FT-IR και της ανάγκης ανάπτυξης κατάλληλου λογισμικού για την ανάλυση των φασμάτων. Οι δυνατότητες της μεθόδου καταδεικνύονται μέσα από τη μελέτη της επίδρασης της εμφύτευσης ιόντων στις οπτικές, δομικές και ηλεκτρικές ιδιότητες πυριτίου και δομών SIMOX πυριτίου. Για το σκοπό αυτό, το υλικό της διατριβής χωρίζεται σε δύο κύρια μέρη που περιλαμβάνουν από κοινού τόσο τα πειραματικά αποτελέσματα όσο και τα αντίστοιχα θεωρητικά στοιχεία. Το Α΄ Μέρος αποτελείται από τα τρία πρώτα κεφάλαια. Σχετίζεται με την εφαρμογή της ταχείας φασματοσκοπίας Fοurier υπερύθρου μέσω του IFS113v και τη διαδικασία με την οποία κατέστη εφικτή η πραγματοποίηση και η ανάλυση οπτικών μετρήσεων FT-IR σε υλικά πολλαπλών επιστρώσεων. Το IFS113v της Bruker, περιλαμβάνει ένα συμβολόμετρο ...
περισσότερα

Περίληψη σε άλλη γλώσσα

The focus of the present Doctoral Thesis was dictated by the need to perform Fast Fourier Transform Optical Measurements in the Infrared using the versatile extended BRUKER IFS113v Spectrophotometer in Aristotle University of Thessaloniki as well as to develop the appropriate software for spectroscopic analysis. The potentiality of the method is exhibited via the study of the effects of ion implantation on the optical, structural and electrical properties of silicon and SIMOX structures. As a consequence, the Thesis is divided into two main parts containing both experimental results as well as appropriate theoretical information. Part Α΄ spans the first three chapters. It deals with the implementation of Fast Fourier Transform Infrared Spectroscopy via the IFS113v spectrophotometer and the optical analysis of multilayer structures. The Bruker IFS113v spectrophotometer, is consisted of a Genzel interferometer which in combination with the fast-sensitive infrared detectors an ...
περισσότερα
Πρέπει να είστε εγγεγραμένος χρήστης για έχετε πρόσβαση σε όλες τις υπηρεσίες του ΕΑΔΔ  Είσοδος /Εγγραφή

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

DOI
10.12681/eadd/15046
Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/15046
Εναλλακτικός τίτλος
Study of the effectsof ion implantation on the optical structural and electrical properties of silicon and SIMOX structures using FOURIER transform infrared spectroscopy
Συγγραφέας
Κατσίδης, Χαράλαμπος Χρήστος
Ημερομηνία
2002
Ίδρυμα
Αριστοτέλειο Πανεπιστήμιο Θεσσαλονίκης (ΑΠΘ). Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Φυσικής
Εξεταστική επιτροπή
Σιάπκας Δημήτριος
Καμπάς Κωνσταντίνος
Παρασκευόπουλος Κωνσταντίνος
Αντωνόπουλος Ιωάννης
Λογοθετίδης Στέργιος
Δημητριάδης Χαράλαμπος
Βες Σωτήριος
Επιστημονικό πεδίο
Φυσικές Επιστήμες
Φυσική
Λέξεις-κλειδιά
Ταχεία φασματοσκοπία FOURIER υπερύθρου; Οπτικές ιδιότητες ημιαγωγών; Λεπτά υμένια; Πολυστρωματικές δομές ημιαγωγών; Πολυστρωματικές δομές μονωτών; Δομές SIMOX - SOI; Κατανομές δείκτη διάθλασης; Εμφύτευση ιόντων στο πυρίτιο; Γενικευμένη μέθοδος πινάκων οπτικής απόκρισης
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά
Άλλα στοιχεία
305 σ., εικ.