Νέα φωτοευαίσθητα πολυμερικά υλικά και διεργασίες για κατασκευή βιομικροσυστημάτων
Πρέπει να είστε εγγεγραμένος χρήστης για έχετε πρόσβαση σε όλες τις υπηρεσίες του ΕΑΔΔ  Είσοδος /Εγγραφή

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/16703
Εναλλακτικός τίτλος
New photosensitive polymeric materials and processes for bio-microsystems fabrication
Συγγραφέας
Δούβας, Αντώνιος Μιχαήλ
Ημερομηνία
2003
Ίδρυμα
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο (ΕΜΠ). Σχολή Χημικών Μηχανικών. Τομέας ΙΙΙ : Επιστήμης και Τεχνικής των Υλικών
Εξεταστική επιτροπή
Δημοτίκαλη Δήμητρα
Τσαγκάρης Γεώργιος
Καλαντζοπούλου Φανή
Σιμιτζής Ιωάννης
Θεοδώρου Θεόδωρος
Μέρτης Κων/νος
Τσαμάκης Δημήτριος
Επιστημονικό πεδίο
Μηχανική & Τεχνολογία
Επιστήμες Χημικού Μηχανικού
Λέξεις-κλειδιά
Φωτοευαίσθητα πολυμερικά υλικά; Φωτολιθογραφία; Κατασκευή βιομικροσυστημάτων; Μικροσυστοιχίες βιομορίων; Διευθέτηση πρωτεϊνών σε στερεό υπόστρωμα; Αλλαγή διαλυτότητας σε φωτοπολυμερικά υλικά; Βιοσυμβατότητα φωτολιθογραφικών διεργασιών; Επισήμανση πρωτεϊνών; Ανοσοαντίδραση
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά
Άλλα στοιχεία
198 σ., εικ.