Χημική εναπόθεση μικροκρυσταλλικού πυριτίου σε αντιδραστήρες πλάσματος: μηχανισμοί θέρμανσης ηλεκτρονίων και εναλλακτικές τεχνικές αύξησης ρυθμού εναπόθεσης
Πρέπει να είστε εγγεγραμένος χρήστης για έχετε πρόσβαση σε όλες τις υπηρεσίες του ΕΑΔΔ  Είσοδος /Εγγραφή

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

DOI
10.12681/eadd/14289
Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/14289
Εναλλακτικός τίτλος
Chemical deposition of microcrystalline silicon in a plasma reactor: electron heating mechanisms and alternative methods for the deposition rate enhancement
Συγγραφέας
Hammad, Ahmad
Ημερομηνία
2004
Ίδρυμα
Πανεπιστήμιο Πατρών. Σχολή Πολυτεχνική. Τμήμα Χημικών Μηχανικών
Εξεταστική επιτροπή
Ραπακούλιας Δημήτριος
Ματάρας Δημήτριος
Γιαννούλης Παναγιώτης
Μακιός Βασίλειος
Αγγελόπουλος Γεώργιος
Μπεμπέλης Συμεών
Κονταρίδης Δημήτριος
Επιστημονικό πεδίο
Μηχανική & Τεχνολογία
Επιστήμες Χημικού Μηχανικού
Λέξεις-κλειδιά
Πλάσμα; Χημική εναπόθεση; Μικροκρυσταλλικό πυρίτιο; Σιλάνιο; Δισιλάνιο; Ηλεκτρική εκκένωση; Διπλή στοιβάδα; Λεπτά υμένια πυριτίου
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά
Άλλα στοιχεία
212 σ., εικ.