Eναπόθεση λειτουργικών πολυκρυσταλλικών λεπτών υμενίων διοξειδίου του τιτανίου (ΤiO2) σε χαμηλή θερμοκρασία με την μέθοδο RF magnetron sputtering

Περίληψη

Tα λεπτά υμένια διοξειδίου του τιτανίου (TiO2) αποτελούν αντικείμενο ευρείας έρευνας τις τελευταίες δεκαετίες, τόσο λόγω των μοναδικών τους ιδιοτήτων (φωτοκατάλυση, φωτοεπαγόμεη υπερυδροφιλία, βιοσυμβατότητα κ.α.), όσο και λόγω της λειτουργικότητάς τους σε εφαρμογές παραγωγής ενέργειας (φωτοβολταΐκές διατάξεις 3ης γενιάς), στην οπτοηλεκτρονική και σε περιβαλλοντικές εφαρμογές. Η απόδοσή τους εξαρτάται σημαντικά από την κρυσταλλική τους δομή και την μορφολογία της επιφάνειας. Επίσης έχει διαπιστωθεί ότι η φάση του ανατάση και τα υμένια μικτής φάσης ανατάση/ρουτίλη αποτελούν καλύτερους φωτοτακαλύτες συγκριτικά με τη φάση του ρουτίλη. Ωστόσο, για την εναπόθεση πολυκρυσταλλικών υμενίων TiO2, συνήθως απαιτείται υψηλή θερμοκρασία υποστρώματος (>300οC) ή ανόπτησή τους. Για αυτό τον λόγο, η εναπόθεση κρυσταλλικών υμενίων TiO2 σε πολυμερικά υποστρώματα χαμηλού κόστους δεν είναι πάντοτε δυνατή. Η παρούσα διατριβή ερευνά τις δυνατότητες εναπόθεσης πολυκρυσταλλικών υμενίων ΤiO2 σε χαμηλή θερμοκρασ ...
περισσότερα

Περίληψη σε άλλη γλώσσα

Titanium dioxide (ΤiO2) thin films have attracted immense attention during the last decades due to their unique properties (photocatalysis, photoinduced superhydrophilicity, biocompatibility and more) and their potential performance in energy (3rd generation thin film solar cells), optoelectronic and environmental applications. Their functionality largely depends on their crystalline structure and surface morphology, while between the TiO2 polymorphs, anatase and mixed anatase/rutile films are considered better photocatalysts than the rutile phase. However, the deposition of polycrystalline TiO2 films normally requires high substrate temperatures (>300oC) or post annealing of the films. This work explores the potential of RF reactive magnetron sputtering for the deposition of polycrystalline TiO2 films at low substrate temperature. For this reason, crystalline TiO2 deposition on cheap and versatile polymeric substrates is not always possible. Aiming to high quality functional TiO2 thin ...
περισσότερα

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

DOI
10.12681/eadd/51493
Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/51493
ND
51493
Εναλλακτικός τίτλος
Low temperature deposition of functional polycrystalline TiO2 thin films by RF magnetron sputtering
Συγγραφέας
Βρακατσέλη, Βασιλική-Ελευθερία του Ιωάννης
Ημερομηνία
2022
Ίδρυμα
Πανεπιστήμιο Πατρών. Σχολή Πολυτεχνική. Τμήμα Χημικών Μηχανικών. Τομέας Επιστήμης και Τεχνολογίας Υλικών. Εργαστήριο Τεχνολογίας Πλάσματος
Εξεταστική επιτροπή
Ματαράς Δημήτριος
Αμανατίδης Ελευθέριος
Σπηλιόπουλος Νικόλαος
Γαλιώτης Κωνσταντίνος
Καλαμπούνιας Άγγελος
Κουζούδης Δημήτριος
Τσερέπη Αγγελική
Επιστημονικό πεδίο
Επιστήμες Μηχανικού και ΤεχνολογίαΝανοτεχνολογία ➨ Νανοϋλικά
Επιστήμες Μηχανικού και ΤεχνολογίαΕπιστήμη Χημικού Μηχανικού ➨ Χημική μηχανική
Λέξεις-κλειδιά
Λεπτά υμένια οξειδίων μετάλλων; RF magnetron sputtering; Διεργασίες πλάσματος; Διοξείδιο του τιτανίου TiO2
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Αγγλικά
Στατιστικά χρήσης
ΠΡΟΒΟΛΕΣ
Αφορά στις μοναδικές επισκέψεις της διδακτορικής διατριβής.
Πηγή: Google Analytics.
ΞΕΦΥΛΛΙΣΜΑΤΑ
Αφορά στο άνοιγμα του online αναγνώστη.
Πηγή: Google Analytics.
ΜΕΤΑΦΟΡΤΩΣΕΙΣ
Αφορά στο σύνολο των μεταφορτώσων του αρχείου της διδακτορικής διατριβής.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.
ΧΡΗΣΤΕΣ
Αφορά στις μοναδικές επισκέψεις της διδακτορικής διατριβής.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.