Πολυμερικά υλικά κατάλληλα για λιθογραφία μέσω φωτοκαθοδηγούμενων διεργασιών (top-down) και μέσω αυτο-οργάνωσης (bottom-up)

Περίληψη

Στην παρούσα διατριβή κατασκευάστηκαν μικροσυστήματα, συνδυάζοντας τη λιθογραφία μέσω φωτοκαθοδηγούμενων διεργασιών (top-down) και μέσω αυτο-οργάνωσης (bottom-up). Ο συνδυασμός των δύο τεχνικών λιθογραφίας δημιούργησε νανοδομές (< 15 nm) υψηλής ανάλυσης. Συνεπώς, συντέθηκαν με πολυμερισμό μεταφοράς ομάδας αμφίφιλα κατά συστάδες συμπολυμερή του πολυ[μεθακρυλικού (2-διμεθυλαμινο) αιθυλεστέρα]-b-πολυ(μεθακρυλικού 2-τετραϋδροπυρανυλεστέρα) (PDMAEMA-b-PTHPMA), όπου οι τριτοταγείς αμινομάδες του PDMAEMA τεταρτοταγοποιήθηκαν με το 1-(χλωρομεθυλο) ναφθαλένιο. Λεπτά υμένια των qPDMAEMA-b-PTHPMA με προσθήκη φωτοπαραγωγού οξέος δημιουργήθηκαν με περιστροφική εναπόθεση των διαλυμάτων των συμπολυμερών σε ουδετεροποιημένα πυριτικά υποστρώματα. Περιοχές των υμενίων εκτέθηκαν σε ακτινοβολία μήκους κύματος 254 nm επιλεκτικά μέσω μάσκας, υδρολύοντας όξινα την εστερομάδα της συστάδας του PTHPMA. Η μικρότερη διάσταση αυτών των περιοχών ήταν στα 500 nm (όριο του οργάνου). Στις ανέκθετες περιοχές των δειγμά ...
περισσότερα

Περίληψη σε άλλη γλώσσα

In this thesis, the microsystems were developed, combining top-down and bottom-up lithography. The combination of these lithographic techniques created nanostructures (< 15 nm) with high resolution. Consequently, the amphiphilic poly(2-dimethylamino)ethyl methacrylate-b-poly(tetrahydropyranyl) methacrylate copolymers, denoted (PDMAEMA-b-PTHPMA) were synthesized by group transfer polymerization and the tertiary amine groups of PDMAEMA were quaternized using 1-(chloromethyl) naphthalene. Thin films of qPDMAEMA-b-PTHPMA copolymers in the presence of photoacid generator were developed via spin coating of copolymers solution on neutralized silicon substrates. A few regions of the films were exposed to 254 nm through a mask, causing the acidic hydrolysis of PTHPMA block. The smallest created structures had 500 nm line width. The unexposed regions of the samples were self-assembled through solvent annealing method in non-selective solvent, creating nanostructures. Moreover, at self-assembled ...
περισσότερα

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

DOI
10.12681/eadd/47625
Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/47625
ND
47625
Εναλλακτικός τίτλος
Polymeric materials suitable for lithography by top-down and bottom-up procedures
Συγγραφέας
Νίκα, Αναστασία (Πατρώνυμο: Σωτήριος)
Ημερομηνία
2020
Ίδρυμα
Εθνικό και Καποδιστριακό Πανεπιστήμιο Αθηνών (ΕΚΠΑ). Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Χημείας
Εξεταστική επιτροπή
Χατζηχρηστίδη Μαργαρίτα
Βαμβακάκη Μαρία
Αργείτης Παναγιώτης
Ιατρού Ερμόλαος
Πιτσικάλης Μαρίνος
Ράπτης Ιωάννης
Σανοπούλου Μερόπη
Επιστημονικό πεδίο
Φυσικές ΕπιστήμεςΧημεία
Λέξεις-κλειδιά
Αυτο-οργάνωση κατά συστάδες συμπολυμερών; Νανοδομές; Οπτική λιθογραφία; Πολυμερισμός μεταφοράς ομάδας; Χημειοπυκνωτές
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά
Άλλα στοιχεία
178 σ., εικ., πιν., σχημ., γραφ.
Στατιστικά χρήσης
ΠΡΟΒΟΛΕΣ
Αφορά στις μοναδικές επισκέψεις της διδακτορικής διατριβής για την χρονική περίοδο 07/2018 - 07/2023.
Πηγή: Google Analytics.
ΞΕΦΥΛΛΙΣΜΑΤΑ
Αφορά στο άνοιγμα του online αναγνώστη για την χρονική περίοδο 07/2018 - 07/2023.
Πηγή: Google Analytics.
ΜΕΤΑΦΟΡΤΩΣΕΙΣ
Αφορά στο σύνολο των μεταφορτώσων του αρχείου της διδακτορικής διατριβής.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.
ΧΡΗΣΤΕΣ
Αφορά στους συνδεδεμένους στο σύστημα χρήστες οι οποίοι έχουν αλληλεπιδράσει με τη διδακτορική διατριβή. Ως επί το πλείστον, αφορά τις μεταφορτώσεις.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.